Chemische Vapor Deposition Cvd Apparatuur Voor Sinws Halfgeleidende Nanodraden

Name: Chemische Vapor Deposition Cvd Apparatuur Voor Sinws Halfgeleidende Nanodraden
Brand: Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.
SKU: 1600085010282
Price: 14,000 USD
Availability: InStock

Nog geen beoordelingen

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.7 yrs

Belangrijkste kenmerken

Andere specificaties

plaats van herkomst

Henan, China

classificatie

Laboratory Heating Equipments

naam van het merk

modelnummer

TN-O1200-50IIIT-3F-HV

Application

thin films, carbon nanotubes, nanowires, LEDs, MEMS, nanomaterials

Tube material

High purity quartz

Tube diameter

50mm(optional: 60mm, 80mm, 100mm)

Heating zone length

200mm+200mm+200mm

Operating temperature

0~1100℃

Temperature control

30 or 50 segment program;±1℃

Gas supply system

3-channel float flowmeter

Molecular pump

600L/S

Rotary vane pump

1.1L/S

Ultimate vacuum

10E-5Pa

Verpakking en levering

Verpakkingsdetails

plastic paper inside,polyfoam filled,wooden box outside

Port

Zhengzhou,Qingdao,etc.

Leveringsvermogen

210 Set/sets per Month

Meer weergeven

Doorlooptijd

Productbeschrijvingen van de leverancier

Minimale bestelhoeveelheid: 1 set

US$ 14.000,00 - US$ 42.000,00

Hoeveelheid

Verzending

Er zijn momenteel geen verzendoplossingen beschikbaar voor de geselecteerde hoeveelheid

Totaal aantal item(s) (0 variaties 0 items)

$0.00 - $0.00

Totale verzendkosten

$0.00

Bescherming voor dit product

Veilige betalingen

Elke betaling die u op Alibaba.com doet, is beveiligd met strikte SSL-codering en PCI DSS-gegevensbeschermingsprotocollen

Restitutiebeleid

Claim een restitutie als uw bestelling niet wordt verzonden, is zoekgeraakt of aankomt met productproblemen

Hoeveelheid (sets)	1 - 1	> 1
Geschatte tijd (in dagen)	45	Overeen te komen